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3D纳米结构高速直写机-NanoFrazor Explore的问世,源于IBM苏黎世研发中心在纳米加工技术的研究成果。 NanoFrazor 3D纳米结构直写机*次将纳米尺度下的3D结构直写工艺快速化、稳定化。通过静电力准确控制的直写垂直精度高达2nm,可以将256灰度反映的高度信息精细的转移到直写介质上。
高压光学浮区法单晶炉是适用于生长各种超导材料单晶,介电和磁性材料单晶,氧化物及金属间化合物单晶等。浮区法单晶炉中的转动以及拉伸等控制部分采用了电子控制,与传统的齿轮变速箱以及离合器相比,这种技术能够使得用户在单晶生长过程中获得更高的控制精度和更高的生长稳定性。
Quantum Design 公司近日推出新款高精度光学浮区法单晶炉,这款高性能单晶炉采用镀金双面镜、高反射曲面设计,温度可达2100-2200摄氏度,系统采用高效冷却节能设计(不需要额外冷却系统),稳定的电源输出保证了灯丝的恒定加热功率. …
薄膜材料的真空、等离子制备、处理技术现已被广泛应用于半导体、光电、太阳能等域的研发以及成产当中,这些技术包括: 等离子体增强化学气相沉积反应器(PECVD Reactors) 脉冲激光沉积系统(Pulsed Laser Deposition) 磁控溅射系统(Sputter Deposition System) 电子束沉积系统(E-beam Deposition System)
Microwriter ML3小型台式无掩膜光刻系统,具有结构小巧紧凑(70cm X 70cm X 70cm),无掩膜直写系统的灵活性,还拥有高直写速度,高分辨率的点。采用集成化设计,全自动控制,可靠性高,操作简便。适用于各种实验室桌面。