zeroK Nanotech推出的基于低温铯离子源（Cs+ LoTIS）的新代高精度低温铯离子源FIB系统——FIB: ZERO（Cs+ LoTIS）和相应的离子源升配件——FIB：RETRO，采用的低温技术可以减少离子束中的随机运动，从而使FIB：ZERO中的离子束斑与传统离子源产生的束斑相比具有更高的亮度，更小的尺寸和更低的能量散失。同时，还可以产生更多的二次离子，获得更清晰的成像。

3D纳米结构高速直写机-NanoFrazor Explore的问世，源于IBM苏黎世研发中心在纳米加工技术的研究成果。 NanoFrazor 3D纳米结构直写机*次将纳米尺度下的3D结构直写工艺快速化、稳定化。通过静电力准确控制的直写垂直精度高达2nm，可以将256灰度反映的高度信息精细的转移到直写介质上。

Microwriter ML3小型台式无掩膜光刻系统，具有结构小巧紧凑（70cm X 70cm X 70cm），无掩膜直写系统的灵活性，还拥有高直写速度，高分辨率的点。采用集成化设计，全自动控制，可靠性高，操作简便。适用于各种实验室桌面。