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薄膜真空沉积系统

薄膜真空沉积系统

简要描述:薄膜材料的真空、等离子制备、处理技术现已被广泛应用于半导体、光电、太阳能等域的研发以及成产当中,这些技术包括:
等离子体增强化学气相沉积反应器(PECVD Reactors)
脉冲激光沉积系统(Pulsed Laser Deposition)
磁控溅射系统(Sputter Deposition System)
电子束沉积系统(E-beam Deposition System)

产品型号:

所属分类:薄膜、颗粒、胶体等制备

更新时间:2017-06-13

厂商性质:生产厂家

详情介绍
薄膜真空沉积系统

薄膜材料的真空、等离子制备、处理技术现已被广泛应用于半导体、光电、太阳能等域的研发以及成产当中,这些技术包括:

等离子体增强化学气相沉积反应器(PECVD Reactors)

脉冲激光沉积系统(Pulsed Laser Deposition)

磁控溅射系统(Sputter Deposition System)

电子束沉积系统(E-beam Deposition Systems)

 

 

Quantum Design 引进多家真空等离子生产商设备,产品线涵盖通用系统到定制设备,来满足中国科研机构的不同需求,适合实验室及工业使用。

 

等离子体增强化学气相沉积系统 (PECVD)


应用域:

SiO2、Si3N4、非晶硅、类金刚石薄膜、光学薄膜、介质膜等制备
太阳能电池研发
石墨烯制备
碳纳米管选择性制备
等离子诱导表面改性
等离子清洗(NF3)
反应离子蚀刻

NPE 系列:标准化射频等离子体怎强化学气相沉积系统(RF-PECVD reactors

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FLARION 系列:射频等离子体增强化学气相沉积系统,高开放性、可扩展定制

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MIRENIQUE 系列微波-等离子体化学气相沉积系统(MW-PECVD reactors),高开放性、可扩展定制

 

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脉冲激光沉积系统 (Pulsed Laser Deposition systems

应用域:


高温超导材料研发
铁电材料
铁磁材料
光学材料
电介材料
硬质薄膜
透明导电氧化物(TCO)沉积,如ITO,ZnO
功能陶瓷薄膜
纳米结构生长
聚合物薄膜

GLAZE 系列中小型,高扩展性制式系统

资料下载


JUV 系列:大中型、复杂定制PLD系统

欢迎垂询具体技术细节。


MAGNION 系列磁控管阴和磁控溅射系统(sputtering cathodes and PVD deposition systems

资料下载

FLOCON 系列电脑控制气体管理系统 (computer controlled gas management systems

资料下载

此外,Plasmionique公司还可以定制:电子束沉积系统(E-beam Deposition Systems

混合沉积系统(Hybrid Deposition Reactors

等离子 离子注入系统 (Plasma Ion Implanter

分子束外延系统 (MBE Systems

等离子、反应离子、深反应离子蚀刻反应器(PE, RIE. DRIE Reactors

 

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