薄膜真空沉积系统

薄膜材料的真空、等离子制备、处理技术现已被广泛应用于半导体、光电、太阳能等域的研发以及成产当中，这些技术包括：

等离子体增强化学气相沉积反应器（PECVD Reactors）

脉冲激光沉积系统（Pulsed Laser Deposition）

磁控溅射系统（Sputter Deposition System）

电子束沉积系统（E-beam Deposition Systems）

Quantum Design 引进多家真空等离子生产商设备，产品线涵盖通用系统到定制设备，来满足中国科研机构的不同需求，适合实验室及工业使用。

等离子体增强化学气相沉积系统 (PECVD)

应用域：

SiO2、Si3N4、非晶硅、类金刚石薄膜、光学薄膜、介质膜等制备
太阳能电池研发
石墨烯制备
碳纳米管选择性制备
等离子诱导表面改性
等离子清洗（NF3）
反应离子蚀刻

NPE 系列：标准化射频等离子体怎强化学气相沉积系统（RF-PECVD reactors）

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FLARION 系列：射频等离子体增强化学气相沉积系统，高开放性、可扩展定制

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MIRENIQUE 系列：微波-等离子体化学气相沉积系统（MW-PECVD reactors），高开放性、可扩展定制

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脉冲激光沉积系统 （Pulsed Laser Deposition systems）

应用域：

高温超导材料研发
铁电材料
铁磁材料
光学材料
电介材料
硬质薄膜
透明导电氧化物(TCO)沉积，如ITO,ZnO
功能陶瓷薄膜
纳米结构生长
聚合物薄膜

GLAZE 系列：中小型，高扩展性制式系统

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JUV 系列：大中型、复杂定制PLD系统

欢迎垂询具体技术细节。

MAGNION 系列：磁控管阴和磁控溅射系统（sputtering cathodes and PVD deposition systems）

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FLOCON 系列：电脑控制气体管理系统 （computer controlled gas management systems）

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此外，Plasmionique公司还可以定制：电子束沉积系统（E-beam Deposition Systems）

混合沉积系统（Hybrid Deposition Reactors）

等离子 离子注入系统 （Plasma Ion Implanter）

分子束外延系统 （MBE Systems）

等离子、反应离子、深反应离子蚀刻反应器（PE, RIE. DRIE Reactors）