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  • LHPG激光加热基座晶体生长炉
    LHPG激光加热基座晶体生长炉

    激光加热基座晶体生长炉(LHPG)具有无坩埚、无污染、温度梯度大、生长速度快、适合生长高熔点的高质量晶体等*势。

    更新时间:2021-01-20型号:LHPG浏览量:623
  • CYRANNUS微波等离子化学气相沉积系统
    CYRANNUS微波等离子化学气相沉积系统

    微波等离子化学气相沉积技术(MPCVD)制造的微波等离子化学气相沉积系统, 通过等离子增加前驱体的反应速率,降低反应温度。适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量硬质薄膜和晶体。

    更新时间:2021-01-21型号:CYRANNUS浏览量:975
  • DCS新型SPS技术-直流型等离子烧结
    DCS新型SPS技术-直流型等离子烧结

    近年来直流型SPS加工技术(Direct Current Sintering)得到广泛的研究和推广,这种新型的SPS技术采用直流电源系统,简化了系统的复杂性,同时也大大降低了硬件成本。另外相较于脉冲电流,直流电源系统可以无间断的在样品内产生内热,因此大大的压缩了加工时间。TT公司制造出新型SPS技术-直流型等离子烧结(DCS),并得到了各地用户的青睐和认可新型SPS

    更新时间:2022-06-27型号:DCS浏览量:633
  • HSO高压氧气氛退火炉
    HSO高压氧气氛退火炉

    德国SciDre公司推出的高压氧气氛退火炉温度可达850°C,压力可达150个大气压。可用于高压晶体生长的料棒前处理。也可用于含氧晶体的高温退火处理。

    更新时间:2021-01-20型号:HSO浏览量:596
  • GS5300四电弧高温单晶生长炉
    GS5300四电弧高温单晶生长炉

    四电弧高温单晶生长炉是电弧加热的高温材料合成方法,非常适合生长化学性质活跃但熔点高(般在3000摄氏度左右)的金属间化合物,包括含有稀土元素(或者金属铀)的二元及四元金属间化合物等合金单晶。

    更新时间:2021-01-20型号:GS5300浏览量:788
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