磁光克尔效应测量系统

主要技术指标：

       温度范围：4.2-500 K

       zui大磁场： 5000 Oe

       推荐样品大小：1-2.5 cm

       zui小克尔转角检出角：0.5 mdeg 
       zui小反射率变化率检出量：0.02%

   主要点：

    1、非常高的灵敏度和稳定性，非常低的噪音，可以探测到低至 10-12 emu 的磁矩。

    2、高度聚焦的激光，激光束斑达到 2 μm，可以轻松进行样品的局部或单个结构的性能检测。

    3、进的样品定位技术。光路中集成光学显微镜以观测激光束斑的聚焦点和大小；扫描克尔显微镜可以

       样品的交流磁化率图像以及反射率图像，帮助用户选择样品的精细测量区域。

    4、灵活开放的系统设计。所有的光学器件都安装在个标准光学平台上，允许用户对光学器件进行调整

       足自己的科研需要。

    5、任意的磁场波形控制。可以选配多种电磁体：四磁体、偶磁体以及螺线管磁体，能够轻松地在样

       表面产生各种复杂的磁场。

    6、简单易用的操作控制软件 LX Pro。该软件基于微软的 Windows 系统，能够自动完成所有实验以及

       验数据的处理。