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超高灵敏度材料氧化分析仪

产品简介

日本Tohuko Electronic Industrial生产的超高灵敏度材料氧化分析仪(CLA) 是种用化学发光原理,探测光子化学发光的高性能仪器。超高的灵敏度使其能够用于分析探测氧化反应、热降解与光辐射所产生的其微弱的化学发光。而这些微弱的化学发光通过常规测试手段如紫外可见光谱、荧光光谱等是无法检测的。

产品型号:CLA
更新时间:2024-04-18
厂商性质:生产厂家
访问量:1354

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超高灵敏度材料氧化分析仪

                   ——化学发光分析系统

 

    日本Tohuko Electronic Industrial生产的超高灵敏度材料氧化分析仪(CLA) 是种用化学发光原理,探测光子化学发光的高性能仪器。超高的灵敏度使其能够用于分析探测氧化反应、热降解与光辐射所产生的其微弱的化学发光。而这些微弱的化学发光通过常规测试手段如紫外可见光谱、荧光光谱等是无法检测的。

    该仪器具有超高灵敏度、在线原位分析、在线监测整个氧化过程、分析速度快的点,是研究材料氧化与降解行为,评价抗氧化助剂性能, 痕量样品检测的种强有力工具。同时超高灵敏度材料氧化分析仪具有其强大的功能,不仅可以用于研究聚合物,涂料,橡胶,树脂,粘合剂等材料,也可以用于检测食品,生化用品。
 

超高灵敏度材料氧化分析仪-技术势

 

. 高灵敏度,快速测样

在氧化开始之初检测到微弱氧化

 

二、原位在线监测

在线监测整个氧化过程的发生

三、操作与维护简单

模块化设计,简设计

四、功能强大

不同温度选择,不同实验需求样品腔供选择

 

超高灵敏度材料氧化分析仪-应用案例

 

1.超高分子量聚乙烯(UHMWPE)氧化机理研究

 

左图, UHMWPE 的化学发光曲线;FTIR测得的过氧化物与羰基化合物浓度曲线;右图,化学发光曲线,a. 未处理的UHMWPE ;b. 加入DBA的UHMWPE ; c. 加入DPA的UHMWPE。

从图中可以得出结论, UHMWPE的*个CL峰为过氧化物分解产生,第二个峰为羰基化合物积聚产生

 

2.橡胶型磁流变弹性体掺入氧化铁后抗氧化能力研究

 

左图,在120℃测试温度下,不同氧化铁含量磁流变弹性体的化学发光曲线;右图,氧化铁含量与化学发光曲线大值关系图

从图中可以得出结论,掺入氧化铁颗粒后,将大大促进磁流变弹性体的抗氧化能力,且在掺入10%之后抗氧化能力基本不变

 

3. 环氧树脂的氧化机理研究

 

左图,在N2气氛,程序升温下,a. 环氧树脂样品的*CL曲线;b. 将样品在N2保护下,室温过夜,二次测量曲线; c. 温度变化曲线;右图,其他实验条件不变,b. 样品在空气中室温过夜,二次测量曲线。

从图中可以得出结论,*个CL峰是树脂氧化产生的过氧化物分解产生的化学发光;第二个CL峰为树脂高温分解产生的化学发光

 

发表文章

(1) Aratani, N. Polym Degrad Stabil 2015, 121, 340.
(2) Weon, J.-I. Polym Degrad Stabil 2010, 95, 14.
(3) Jacobson, K. Polym Degrad Stabil 2006, 91, 2292.
(4) Jacobson, K. Polym Degrad Stabil 2006, 91, 2126.
(5) Jacobson, K. Polym Degrad Stabil 2006, 91, 2133.
(6) Lokander, M. Polym Degrad Stabil 2004, 86, 467
(7) Forsström, D. Polym Degrad Stabil 2003, 81, 81
(8) Eriksson, P. Polym Degrad Stabil 2002, 78, 183.
(9) Jacobson, K. Polym Degrad Stabil 2000, 68, 53.
(10) Forsström, D. Polym Degrad Stabil 2000, 67, 69.
(11) Forsström, D. Polym Degrad Stabil 2000, 67, 255.
(12) Kato, M. Polym Degrad Stabil 1999, 65, 457.
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(19) Tsukagoshi, K. Talanta 2007, 72, 607.
(20) Chien, C. T. Am J Transplant 2005, 5, 1194

国内用户:

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