一站式薄膜制备与加工！nanoPVD、高温退火、等离子刻蚀助力高效实验

      Moorfield Nanotechnology公司是英国著名仪器研发公司，成立28年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术，拥有雄厚的技术实力，推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。Moorfield公司根据材料研究领域的需求，推出了一系列高精度薄膜制备与加工系产品。产品涵盖了薄膜制备（电子束蒸发、热蒸发、磁控溅射）、热处理、等离子刻蚀等多个薄膜材料研究的环节。Moorfield Nanotechnology功能强大的落地式设备可以满足多种科研与生产的需求。近年来更是推出了体积小巧的台式设备，性能可以和大型设备相媲美，更加节省实验室空间，实验更加高效。

在与Quantum Design中国子公司正式合作进入中国市场的短短三年内已交付使用超过二十套设备。用户包含清华大学、浙江大学、西湖大学、大连理工大学、国家电网、中国科学院深圳先进技术研究院……等著名高校、国企、科研院所以及半导体行业的上市公司。跨入2024年，将有更多的设备交付于复旦大学、辽宁材料实验室等单位。

      Moorfield Nanotechnology倾力打造的一款高度集成化智能化的台式磁控溅射系统。该系统虽然体积小巧，但是功能出色、配置齐全。该型号的推出是为了解决传统台式设备功能简单不能满足学术研究的问题。

☛ nanoPVD-S10A磁控溅射系统：最多三靶位，可实现直流、射频溅射，共溅射，可通Ar、O₂、N₂气，样品台可加热，最大支持8英寸样品，包含晶振膜厚标定系统，生长过程高精度氛围控制，触屏自动化控制系统，自动安全锁。

☛ nanoPVD-T15A热蒸发系统：可实现金属热蒸发，有机物低温热蒸发，配置灵活，包含晶振膜厚标定系统，生长过程高精度氛围控制，触屏自动化控制系统，自动安全锁。

☛ nanoPVD-ST15A溅射&热蒸发系统：磁控溅射和热蒸发在同一系统中灵活配置。满足不同需求。

台式高性能多功能PVD薄膜制备系列—nanoPVD-ST15A

台式超精准二维材料等离子软刻蚀系统—nanoETCH

      石墨烯等二维材料的微纳加工与刻蚀需要很高的精度，而目前成熟的传统半导体刻蚀系统在面对单层材料的高精度刻蚀需求时显得力不从心。为了解决目前微纳加工中常用的等离子刻蚀系统功率较大、导致二维材料器件性能被破坏的问题。Moorfield Nanotechnology与曼彻斯特大学诺奖得主Andre Geim课题组联合研发了台式超精准二维材料等离子软刻蚀系统- nanoETCH。

☛ 30W 高精度射频源，控制精度达到10 mW

☛ MFC流量计精准控制刻蚀气压

☛ 3英寸、4英寸、6英寸样品台

☛ 全自动触屏操作系统

☛ 设定、保存多个刻蚀程序

☛ O₂、氟化物气体选项可对二维材料、传统硅基材料等进行反应刻蚀。

台式超精准二维材料等离子软刻蚀系统—nanoETCH

台式精准气氛\压力控制高温退火系统—ANNEAL

      Moorfield Nanotechnology专门为制备高质量的样品而推出的台式精准气氛\压力控制高温退火系统，该系统可以满足从高真空到各种气氛的退火需求。对气压和温度都能进行高精度控制，该系统不仅仅是普通的退火系统更是二维材料、基片等进行精确可控热处理的重要保障。该系统突破了传统箱式、管式炉的粗放退火方式，开创了高精度退火的新篇章。

☛ 石英灯加热：温度高600℃，可兼容4英寸、6英寸样品台，可兼容多数气氛。

☛ CCC碳化物加热：500℃以上需求的常选方案，温度可达1000℃，适用于非氧气环境。

☛ SiC保护的碳材料加热：兼容氧气氛围与多数气体氛围的增强型加热材料。

☛ 兼容惰性气体、氧气、氢气等多种气氛，具有自动尾气稀释方案。

台式精准气氛\压力控制高温退火系统—ANNEAL

高精度薄膜制备与加工系统-MiniLab

      高精度薄膜制备与加工系统 - MiniLab是英国Moorfield Nanotechnology公司经过多年技术积累与改进的旗舰型系列产品。MiniLab系列产品的定位是配置灵活、模块化设计的PVD系统，可用于高质量的科学研究和中试生产。

☛ 薄膜生长方式可选：热蒸发（金属）、低温热蒸发(有机物)、电子束蒸发、磁控溅射

☛ 多种生长方式可集成于同一系统

☛ 系统可与手套箱集成，用于特殊材料的生长制备

☛ 可集成等离子样品清洗功能

☛ 多种配置和灵活选择