产品展示 / products 您的位置:网站首页 > 产品展示 > 材料制备/样品合成 > 薄膜、颗粒、胶体等制备 > 台式高性能多功能PVD薄膜制备系列—nanoPVD
台式高性能多功能PVD薄膜制备系列—nanoPVD

台式高性能多功能PVD薄膜制备系列—nanoPVD

简要描述:Moorfield近推出了台式高性能多功能PVD薄膜制备系列—nanoPVD,高度集成化的高真空高性能台式PVD系统。越、高效的性能适用于众多薄膜的研究工作。

产品型号: Nano PVD系列

所属分类:薄膜、颗粒、胶体等制备

更新时间:2022-04-08

厂商性质:生产厂家

详情介绍
品牌其他品牌产地类别进口
应用领域化工,能源,电子,电气,综合

台式高性能多功能PVD薄膜制备系列—nanoPVD

 

   基于多年大型薄膜制备系统的设计与研发所积累的丰富经验,Moorfield Nanotechnology深入了解了剑桥大学、诺森比亚大学、帝国理工学院、巴斯大学、埃克塞大学、伦敦玛丽大学等多所著名大学科研团队的具体需求,经过不懈努力推出了台式高性能多功能PVD薄膜制备系列—nanoPVD产品。该系列产品是为高水平学术研究研发的小型物理气相沉积设备。推出之后短短几年时间已经在欧洲销售了数十台,该系列产品包含了磁控溅射、金属/机物热蒸发系统。这些设备虽然体积小巧,但是性能,能够快速实现高质量纳米薄膜、异质结的制备,通常在大型设备中才有的共溅射和反应溅射功能也可以在该系列产品上实现。准确的有机物沉积系统更是该系列的大色。便捷的操作、智能的控制、高效的制备效率让您的学术研究进入快车道。

设备型号

台式高质量多功能薄膜磁控溅射系统 - nanoPVD S10A

    nanoPVD S10A是Moorfield Nanotechnology倾力打造的款高度集成化智能化的台式磁控溅射系统。该系统虽然体积小巧,但是功能出色、配置齐全。该型号的推出是为了解决传统台式设备功能简单不能满足前沿学术研究的问题。剑桥大学、诺森比亚大学、帝国理工学院等用户都对这款台式设备给予了很高的评价。

    nanoPVD S10A多可安装3个水冷式溅射源,可实现高功率持续运行,靶材尺寸与大型系统样是行业通用尺寸。系统可以实现两源共溅射方案,可以实现反应溅射方案,多可同时控制3路气体。系统具有分子泵,可快速达到5*10-7mbar高真空。腔体取放样品非常方便,样品台大尺寸4英寸,系统有智能化的触屏控制系统,采用完备的安全设计方案。

    nanoPVD S10A可用于制备高质量的金属薄膜、半导体薄膜、介电、缘材料薄膜以及复合薄膜、多层异质结等。

主要点:

◎  水冷式溅射源,通用2英寸设计

◎  MFC流量计高精度控制过程气体

◎  DC/RF溅射电源可选

◎  全自动触摸屏控制方案

◎  可设定、储存多个溅射程序

◎  大4英寸基片

◎  本底真空<5*10-7mbar

◎  系统维护简单

◎  完备的安全性设计

◎  兼容超净间

◎  性能稳定

选件:

◎  机械泵类型可选

◎  样品腔快速充气

◎  自动高精度压力控制

◎  添加过程气体

◎  500℃衬底加热

◎  衬底旋转,Z向调节

◎  三源溅射系统

◎  共溅射方案

◎  DC/RF溅射电源可选

◎  溅射电源自动切换系统

◎  晶振膜厚测量系统

典型配置方案:

金属沉积:2个溅射靶,配DC电源与电源切换系统,衬底Z向调节与挡板系统,晶振膜厚测量系统。

缘材料沉积:2个溅射靶,配RF电源与电源切换系统,衬底加热与氧气通入气路,衬底Z向调节与挡板系统,晶振膜厚测量系统。

反应/共溅射:三个溅射靶,配备DC/RF电源与自由切换系统,三路过程气体(Ar、O2、N2)用于沉积氧化物或氮化物。

 

 

 

台式超大面积高质量薄膜磁控溅射系统 - nanoPVD S10A-WA

    Moorfield Nanotechnology根据客户超大样品的需求推出了nanoPVD-S10A-WA超大面积高质量薄膜磁控溅射系统。该型号是nanoPVD-S10A的拓展型号,用于制备超大尺寸的样品,大样品可达8英寸。

    该系统基于nanoPVD-S10A的成熟设计和性能,在相同腔体的设计基础上对nanoPVD-S10A进行了调整,使溅射源正对衬底。结合衬底旋转,即使在生长8英寸的超大样品时也可获得很高的样品均匀度。与nanoPVD-S10A样,溅射源采用水冷式设计,可以持续高功率运行,可实现共溅射等功能。nanoPVD-S10-WA是款接受半定制化的设备,如有殊需求请联系我们进行详细讨论。

主要点:

◎  可制备8英寸超大样品

◎  水冷式2英寸标准溅射源

◎  MFC流量计高精度控制过程气体

◎  直流/交流溅射电源可选

◎  全自动触屏控制

◎  可设定、存储多个生长程序

◎  本底真空<5×10-7mbar

◎  易于维护

◎  全面安全性设计

◎  兼容超净间

◎  系统性能稳定

 

选件:

◎  机械泵类型可选

◎  腔体快速充气

◎  自动高分辨压力控制

◎  增加过程气体

◎  升至双溅射源

◎  DC/RF电源可选

◎  溅射电源切换

◎  共溅射方案

◎  晶振膜厚测量系统

台式高质量金属\有机物热蒸发系统 - nanoPVD T15A

    nanoPVD T15A是Moorfield Nanotechnology推出的 nanoPVD系列中的型号,高腔体设计方案为热蒸发而设计,确保薄膜均匀度,大可生长4英寸的薄膜样品。近年时间在英国安装就有十几套,剑桥大学、巴斯大学、埃克塞大学、伦敦玛丽大学等都是该设备的用户。

    系统可以配备低温蒸发(LTE)和标准电阻蒸发源,分别用于沉积有机物和金属薄膜。低热容有机物蒸发源具有高精度的控制电源,可以准确的控制蒸发条件制备高质量的有机物薄膜。金属源采用盒式屏蔽模式,可以有效的减少交叉污染等问题。智能的控制系统和灵活的配置方案使PVD-T15A非常适合应用于材料研究域。

    nanoPVD T15A可用于制备高质量的金属、有机物薄膜和异质结等材料。可应用于传统材料科学和新型的OLED(有机发光二管)、OPV(有机光伏材料)和 OFET(有机场效应管)域。

主要点:

◎  可选金属、有机物蒸发源

◎  高纵横比的腔体,增加样品均匀性

◎  全自动触屏控制系统

◎  可设定、储存多个蒸发程序

◎  大4” 基片

◎  本底真空<5*10-7mbar

◎  维护简单

◎  完备的安全性设计

◎  性能稳定

 

选件:

◎  机械泵类型可选

◎  样品腔快速充气

◎  自动高精度压力控制

◎  多4个有机蒸发源

◎  多2个金属蒸发源

◎  500℃衬底加热

◎  衬底旋转,Z向调节

◎  晶振测量系统

 

典型配置指标:

金属沉积:双金属源与挡板和晶振系统

有机物沉积:四个低温蒸发源与挡板和晶振系统。

金属/有机物沉积:两个金属源,两个有机源与挡板和晶振系统。

 

 

发表文章

A high speed PE-ALD ZnO Schottky diode rectifier with low interface-state density

Jin, J., et al. Journal of Physics D: Applied Physics 2018 DOI: 10.1086/1361-6463/aaa4a2

作者报道了用用氧化锌和PtOx肖基接触界面制备高速肖基二管整流器的方法。为此,作者使用PE-ALD沉积ZnO,使用Moorfield nanoPVD-S10A系统通过射频溅射制备金属层和PtOx接触层,包括反应溅射模式(通过含氧气氛沉积Pt)。所制备的器件具有适用于噪声敏感和高频电子器件的性能。

 

用户单位

剑桥大学

undefined

帝国理工学院

埃克塞大学

巴斯大学

诺森比亚大学

undefined

伦敦玛丽大学

 

留言询价

留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7
  • 联系电话电话010-85120887
  • 传真传真010-85120276
  • 邮箱邮箱info@qd-china.com
  • 地址公司地址北京市朝阳区酒仙桥路10号 恒通商务园B22座 501 室
© 2022 版权所有:QUANTUM量子科学仪器贸易(北京)有限公司   备案号:京ICP备05075508号-3   sitemap.xml   管理登陆   技术支持:化工仪器网       
  • 公众号二维码

联系我们

contact us

联系我们时,请告知是化工仪器网上看见的

返回顶部