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产品中心材料制备/样品合成薄膜、颗粒、胶体等制备PLD脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统
产品简介
脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统（NEW）等由美国BlueWave生产，可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2D材料。Blue Wave还提供电子束蒸发、热蒸发、反应溅射、热丝化学气相沉积（HFCVD）、热化学气相沉积系统（TCVD）等设备。
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 | 薄膜制备* |
BlueWave是家著名的美国半导体设备、材料生产商。BlueWave提供多种薄膜制备系统，包括脉冲激光沉积(PLD)、电子束蒸发、热蒸发、反应溅射、热丝化学气相沉积(HFCVD)、热化学气相沉积系统(TCVD)。这些系统是理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2D材料。Blue Wave还提供相关系统配件，例如基片加热装置、原位监测工具。此外，BlueWave还为您提供标准的薄膜以及材料涂层，例如氧化物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶Si/SiC、晶体AlN-GaN、聚合物、纳米钻石、HFCVD钻石涂层以及器件加工。
1、脉冲激光沉积系统
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产品点：
•电抛光多空不锈钢超高真空腔体 •可集成热蒸发源或溅射源 •可旋转的耐氧化基片加热台 | •流量计或针阀准确控制气体流量 •标准真空计 •干泵与涡轮真空泵 •可选配不锈钢快速进样室 | •可选配基片-靶材距离自动控制系统 •是金属氧化物、氮化物、碳化物、金属纳米薄膜、多层膜、超晶格的设备 |
2、物理气相沉积系统（Physical Vapor Deposition Plus）
产品点 •立衬底加热，可旋转 •多量程气体流量控制器 •标准气压计 | •机械、分子、冷凝真空泵 •衬底和源距离可控 •可用于金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜 |  |
3、热化学气相沉积系统（TCVD）
•高温石英管反应器设计 •温度范围：室温到1100度 •多路气体准确控制 •标准气压计 •易于操作 |
| •可配机械泵实现低压TCVD •可用于制备金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜 •液体前驱体喷头 •2英寸超大*温度均匀区 |
4、热丝化学气相沉积系统（HFCVD）
产品点： •水冷不锈钢超高真空腔 •热丝易安装、更换 •4个不同量程气体控制器 •标准气压计 •衬底与热丝距离可调节 •2英寸衬底加热、可旋转 •*制备金刚石和石墨烯 |  |
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