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脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统

脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统

简要描述:脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统(NEW)等由美国BlueWave生产,可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2D材料。Blue Wave还提供电子束蒸发、热蒸发、反应溅射、热丝化学气相沉积(HFCVD)、热化学气相沉积系统(TCVD)等设备。

产品型号: PLD

所属分类:薄膜、颗粒、胶体等制备

更新时间:2020-10-30

厂商性质:生产厂家

详情介绍
品牌其他品牌价格区间200万-400万
产地类别进口应用领域化工,电子,电气,综合
薄膜制备*

 

BlueWave是家著名的美国半导体设备、材料生产商。BlueWave提供多种薄膜制备系统,包括脉冲激光沉积(PLD)、电子束蒸发、热蒸发、反应溅射、热丝化学气相沉积(HFCVD)、热化学气相沉积系统(TCVD)。这些系统是理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2D材料。Blue Wave还提供相关系统配件,例如基片加热装置、原位监测工具。此外,BlueWave还为您提供标准的薄膜以及材料涂层,例如氧化物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶Si/SiC、晶体AlN-GaN、聚合物、纳米钻石、HFCVD钻石涂层以及器件加工。

 

1、脉冲激光沉积系统

 

 

产品点:

 

电抛光多空不锈钢超高真空腔体

•可集成热蒸发源或溅射源

•可旋转的耐氧化基片加热台

•流量计或针阀准确控制气体流量

•标准真空计

•干泵与涡轮真空泵

•可选配不锈钢快速进样室

•可选配基片-靶材距离自动控制系统

•是金属氧化物、氮化物、碳化物、金属纳米薄膜、多层膜、超晶格的设备

 

2、物理气相沉积系统(Physical Vapor Deposition Plus)

 

产品点
超高真空不锈钢腔体

电子束、热蒸发、脉冲激光沉积可集成

立衬底加热,可旋转

多量程气体流量控制器

标准气压计

机械、分子、冷凝真空泵
可选不锈钢快速进样室

衬底和源距离可控

可用于金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜

 

3、热化学气相沉积系统(TCVD)

 

 

•高温石英管反应器设计

•温度范围:室温到1100度

•多路气体准确控制

•标准气压计

•易于操作

 

 

 

 

•可配机械泵实现低压TCVD

•可用于制备金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜

•液体前驱体喷头

•2英寸超大*温度均匀区

 

4、热丝化学气相沉积系统(HFCVD)

 

产品点:

•水冷不锈钢超高真空腔

•热丝易安装、更换 

•4个不同量程气体控制器

•标准气压计

•衬底与热丝距离可调节

•2英寸衬底加热、可旋转 

•*制备金刚石和石墨烯 

 

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