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新代电弧等离子体沉积系统:同时使用多种靶材制备新化合物

发布时间: 2017-10-26  点击次数: 438次

    日本ADVANCE RIKO公司总结多种薄膜沉积技术,发布电弧等离子体沉积(APD)系统。其工作原理主要分为三步:在触发电上加载高电压后,电容中的电荷充到阴(靶材)上;其次真空中的阳和阴(靶材)间,电子形成了蠕缓放电,并产生放电回路,靶材被加热并形成等离子体;zui后通过磁场控制等离子体照射到基底上,形成薄膜或纳米颗粒。

APD工作原理 

    电弧等离子体沉积系统用5个高能电容器,通过改变电容器使用数量,使充电电压发生改变,从而控制脉冲能量,zui终达到控制薄膜厚度的目的。同时可以在1.5nm到6nm范围内控制纳米颗粒直径,活性好,产量高。 

APD制备的Fe-Co纳米颗粒的SEM和EDS图谱 

    电弧等离子体沉积系统zui多搭载3个沉积源,可以同时/交替使用多种靶材,使得制备新化合物成为可能。金属/半导体制备同时,控制腔体气氛,可以产生氧化物和氮化物薄膜。另外,高能量等离子体可以使碳靶材离子化,在碳单质体如非晶碳,纳米钻石,碳纳米管沉积与制备方面有广泛的应用。 

 

产品点

1.    可以通过调节放电电容量,控制纳米颗粒直径在1.5nm到6nm范围内。

2.    APD系统适用于多种导电靶材,电阻率小于0.01Ω.cm的靶材系统都可以将其等离子体化。

3.    改变系统的气氛氛围,可以制备氧化物或氮化物。石墨在氢气中放电能产生超纳米微晶钻石。

4.    用该系统制备的纳米颗粒用于催化,催化活性高于湿法制备。

5.    Model APD-P支持将纳米颗粒做成粉末。Model APD-S适合在2英寸基片上制备均匀薄膜。

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