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技术线上论坛|12月15日《无掩膜光刻技术在生物芯片域的新应用》

发布时间: 2021-12-13  点击次数: 1686次

报告简介:

 

在制备新型生物芯片器件时,通常会涉及到光刻工艺。而在诸多光刻技术中,无掩膜光刻技术因其*的势和点,成为当前·为流行高效的种。与传统掩膜版技术相比,无掩膜曝光技术具有高分辨、高对准精度、更加简易操作等诸多势,能够轻松实现微米、亚微米精度的光刻、套刻。配合各类标准微加工工艺,能够方便快捷地实现各类生物芯片器件的制备。在本报告中,将重点介绍无掩膜光刻技术新前沿进展,结合来自国内外以色列理工,IBM,复旦等科研单位在国际期刊发表的研究成果,探讨无掩膜光刻技术在生物芯片域的应用。

 

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报告时间:

2021年12月15日 14:00(北京时间)

 

主讲人:

喻博闻  博士

喻博闻博士,毕业于澳大亚昆士兰大学机械与矿业学院,博士期间研究方向为微纳机电器件中的界面问题,以及微纳尺度操纵和加工技术。于2021年4月加入Quantum Design中国子公司表面光谱部门,负责微纳加工相关产品在全国的应用开发、技术支持及市场拓展工作。


技术线上论坛:

https://qd-china.com/zh/n/2004111065734

 

 

相关产品:

1、小型台式无掩膜光刻机- MicroWriter ML3

https://www.chem17.com/st166724/product_16839518.html

 

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