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新品推出:新代高精度低温铯离子源FIB系统正式亮相

更新时间:2021-06-30点击次数:1458

随着半导体器件、量子器件和材料科学等域的蓬勃发展,器件的尺寸变得越来越小、结构越来越复杂,与之相应的微纳尺度下的加工精度要求越来越高。聚焦离子束(FIB)系统已成为相关域的研究中*的关键设备。截止到目前,可商购的FIB系统大都使用液态金属或惰性气体作为离子源,但是采用上述离子源的FIB系统在加工精度,加工速度,维护难度和使用费用等方面很难达到令人满意的平衡,因此两者并非FIB系统的理想离子源选择。

 

为了解决商用FIB系统中存在的上述问题,2020年,美国zeroK NanoTech公司运用曾获诺贝尔奖的激光冷却技术,推出了新代高精度低温铯离子源FIB系统——FIB: ZERO。该系统采用低温铯离子源(Cs+ LoTIS),在很大程度上减少了离子的随机运动,使FIB:ZERO中的离子束斑与传统离子源产生的束斑相比具有更高的亮度,更小的尺寸,和更低的能量散失。因此,可以获得更清晰的成像、更高的加工精度和更少的样品损伤。同时,也显著降低了维护难度和使用成本。近日,Quantum Design中国正式引进新代高精度低温铯离子源FIB系统,希望能够帮助我国科学家在半导体器件、量子器件和材料科学等域有更深入的研究。

 

 

新品亮点

 

1. 更清晰的成像效果,更大的成像景深

 

 

2. 更明显的对比度

 

 

3.  更高的加工精度(相同时间)

 

 

4. 更好的加工均匀性(相同时间)

 

 

5. 对样品小的损伤范围

 

 Stopping and Range of Ions in Matter(SRIM)模拟不同离子源产生的离子束在硅中的影响范围

传统气体离子源传统液态金属离子源新代低温铯离子源

 

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