技术文章_第(17)页－QUANTUM量子科学仪器贸易（北京）有限公司

低温光学研究平台：探索新材料光学性质的重要工具
2023-06-21 随着科技进步，人类对于材料的研究也越来越深入。在这个过程中，研究者们需要不断开发新的实验平台，以便更好地研究材料的特性。其中，低温光学研究平台是一个广泛应用于材料研究领域的实验平台之一。低温光学研究平台是指将材料置于低温环境下，利用光学方法测量其物理性质的实验平台。通常，这种实验平台使用液氮或液氦等低温介质作为冷却剂，使得样品的温度可以降低到几十K以下。这种低温环境下的实验平台能够提供一些普通室温下难以获得的实验条件，例如，减少材料的热运动、减少杂散辐射的干扰、提高材料的纯度...
突破同步辐射限制，从Angew/JACS看easyXAFS如何助力电池材料机理研究
2023-06-16 理解材料的构-效关系一直是电池领域的关键课题。随着先进表征技术的发展，研究人员能够更加准确、便捷地获得材料的物理化学性质，从而促进高效、稳定的电池材料的开发。X射线发射谱（XES，X-rayemissionspectroscopy）是一种通过探测特征X射线荧光来分析元素性质的技术，可以判定原子的氧化态，自旋态，共价，质子化状态，配体环境等信息。近年来，有研究表明元素自旋态可影响材料的电化学性质。作为表征元素自旋态的有效手段，XES越来越多地出现在电池研究的相关报道中。然而，由...
无掩膜直写光刻系统助力二维材料异质结构电输运性能研究
2023-06-14 期刊：ACSNanoIF：18.027文章链接:https://doi.org/10.1021/acsnano.c09131【引言】MoS2是一种典型的二维材料，也是电子器件的重要组成部分。研究者发现，当MoS2与石墨烯接触会产生vanderWaals作用，使之具有良好的电学特性，可广泛应用于各类柔性电子器件、光电器件、传感器件的研究。然而，MoS2-石墨烯异质结构背后的电输运机理尚不明确。这主要是因为传统器件只有两个接触点，不能将MoS2-石墨烯异质结构产生的电学输运特性与...
磁性存储介质材料取得新进展，振动样品磁强计提供关键数据！
2023-06-08 近几十年来，由于L10有序的FePt薄膜具有极大的磁各向异性能量密度，在高密度热辅助磁记录（HAMR）介质中具有潜在的应用前景，引起了研究人员的关注。通过添加Au、Ag、Cr、Mn、Cu、Ni等第三元素，可以控制FePt合金膜的磁性各向异性、居里温度、结构有序温度和晶体对数取向等材料特性，从而满足更多领域的应用。近期，来自印度Darrang大学的R.K.Basumatary等研究者探究了不同含量和不同条件下制备的Co掺杂FePtCo薄膜FCC结构对磁性能的影响，以及Cu插入层...
高通量单细胞力谱测定！多功能单细胞显微操作技术助力单细胞力学研究
2023-05-31 单程细胞具有复杂生物学性质，它们通过细胞外基质ECM形成紧密的细胞与基质细胞与细胞连接，诸如上皮细胞通过这种特殊的链接方式构成了屏障层保护人体免受外界损伤。因此细胞之间以及细胞基底的粘附力测定对于研究细胞粘附蛋白的机制有着重要意义。使用力学工具测量细胞间以及细胞与基质之间的粘附力始终不是一件容易的事情。首先，由于细胞与基质的作用力仅为nN级别，因此需要力学精度较高的设备才能够测量，而且在这其中较为适合的工具为原子力显微镜（AFM）。原子力显微镜能够提供纳米级别的操作精度并可测...
微纳光刻好助手！小型台式无掩膜直写光刻系统
2023-05-29 随着国内各学科的发展和产业的升级，相关的科研院所和企事业单位对各种微纳器件光刻加工的需求日益增多。然而，这些微纳器件光刻需求很难被传统的掩模光刻设备所满足，主要是因为拥有这类的光刻需求的用户不仅需要制备出当前的样品，还需要对光刻结构进行够迅速迭代和优化。为了满足微纳器件对光刻的需求，QuantumDesign中国推出了小型台式无掩膜直写光刻系统MicroWriterML3作为微纳器件光刻的解决方案。与传统的掩模光刻相比，MicroWriterML3根据用户计算机中设计的图形在...
全自动外泌体荧光检测分析——探索细胞间交流的新方法
2023-05-26 随着生命科学的不断发展，人们对于细胞间通讯的研究越来越深入。而外泌体作为一种新型的细胞间信息传递的方式，在近些年逐渐成为了研究的热点之一。然而，外泌体的检测与研究也面临着许多困难，其中最大的问题便是如何快速、准确地分离和检测外泌体。在这样的背景下，全自动外泌体荧光检测分析技术应运而生。全自动外泌体荧光检测分析技术的基本原理是，通过对样本进行离心、超滤等分离处理，将外泌体分离出来，并利用荧光染料标记其表面蛋白，再通过自动化设备进行检测。相较于传统的手工操作，该技术具有高效、快捷...
原子层沉积系统：革命性的薄膜制备技术
2023-05-24 随着纳米科技和集成电路的发展，对于高精度、高稳定性薄膜材料的需求越来越迫切。而传统的物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）等薄膜制备技术往往受到了一些限制，比如可控性、均匀性、附着力等方面。而原子层沉积系统（ALD）就是一种可以克服这些缺点的革命性薄膜制备技术。原子层沉积系统是一种通过交替地向表面注入有机金属和还原剂的方式进行薄膜生长的方法。这种系统能够精确控制每个原子或分子的沉积量，并在每次反应之后将表面清洁干净，以确保下一次反应的成功进行。由于这种方法能够实现原子...

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